Polacy patentują metodę wytwarzania grafenu
Warszawski Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych (ITME) uzyskał właśnie ochronę patentową za oceanem dla opracowanej przez siebie metody masowej produkcji grafenu. Tym samym Polska ma szansę zostać światową potęgą jeśli chodzi o produkcję tego "materiału przyszłości" - podaje portal www.geekweek.pl.
Udało się uzyskać patent dla konkretnej metody produkcji grafenu na węgliku krzemu, a to właśnie ta metoda wydaje się obecnie najbardziej obiecująca jeśli chodzi o wykorzystanie tego materiału do produkcji elektroniki - a tu właśnie grafen ma nam dostarczyć kolejnej technologicznej rewolucji.
Cały materiał dostępny na stronie: www.geekweek.pl
Źródło: www.geekweek.pl
Fot.: photogenica.pl
